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CIF進口的紫外臭氧清洗機

更新時間:2018-05-15       點擊次數:3583

美國BIOFORCE紫外臭氧清洗機(UVO)入駐山東大學

  美國Biofore公司的ProCleaner ™的產品線提供非常有競爭力的價位,并給研究者提供更多的選擇機會。該ProCleaner ™裝置的用途是消除分子程度的污染,使探針和表面盡可能清潔。

應用領域
?預處理表面圖案化工具
?清潔硅和氮化硅探針
?晶圓清洗
?表面氧化及制備
?提高表面親水性
?表面清洗
?制備薄膜沉積
?紫外光固化
?表面圖案化
?清洗光學鏡頭
?粘接硅橡膠
?表面消毒
?清潔MEMS器件

可處理材料表面
?氮化硅
? 金屬
?玻璃
?云母
?石英
?陶瓷
?聚合物 

產品特點
?高強度UV燈源,持續(xù)的清除樣品表面有機污染物;
?成本低、簡單、經濟、快速;
?結構緊湊(體積小);
?抽屜式樣品臺;
?多功能樣品定位支架
?安全聯(lián)鎖和指示燈
?樣品清洗無需溶劑;
?超潔凈表面;
?室溫操作。

技術參數:
型號:UV Ozone Cleaner–ProCleaner™ Plus、UV Ozone Cleaner–ProCleaner™
樣品臺尺寸:100mmx125mm;
zui大處理樣品高25mm;
適用電壓:230V,0.6A,50Hz(110V,1.2A,60Hz);
重量15 lbs。

英國Ossila紫外臭氧清洗機入駐中科院金屬研究所

英國Ossila公司提供的紫外臭氧清洗機(UVO),是一種簡單,經濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤上,關上艙門,設置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!
目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質。
表面UV光清洗:利用紫外光以及由其產生的臭氧OZONE,對有機物質所起的光敏氧化分解作用,以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物(碳氫化合物),獲得超潔凈的表面。
表面UV光改質:利用紫外光照射有機表面,在將有機物分解的同時,254nm波長的紫外光被物體表面吸收后,將表層的化學結構切斷,光子作用產生原子氧會與被切斷的表層分子結合,并將之變換成具有高度親水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),從而提高表面的浸潤性。
主要應用:
石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
微電子產品的表面清洗:微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。
精密集成電路的表面清洗:液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。
在膠粘接或是印刷之前,對高分子聚合制品的表面改性:橡膠粘接,塑料汽車部件,透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。
科研過程的表面清洗及處理:半導體,生物芯片,納米材料,聚合物,光化學等。

產品特點
成本低;
?120x120mm樣品臺;
?zui大處理樣品高14mm;
?抽屜式樣品臺,簡單方便;                                  
?樣品臺自動安全開關,打開UV自動關閉,防止對人身傷害;     UVO顯示器
?LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”;
?60分鐘定時器;
?高強度UV燈源;
?可控溫的樣品臺;

?樣品清洗無需溶劑;
?超凈表面。

       

技術參數

在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質上(300納米二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。

華儀行(北京)科技有限公司
地址:北京市豐臺區(qū)科興路7號國際企業(yè)孵化中心301室
郵箱:cif_lab@163.com
傳真:86-010-63752028
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