隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，紫外線表面清潔技術(shù)在上被提出。1970年代中期，美國電子技術(shù)和設(shè)備實(shí)驗室使用紫外線清潔石英晶片，并取得了令人滿意的結(jié)果。但是，在美國，紫外臭氧清洗機(jī)技術(shù)長期以來一直主要用于領(lǐng)域的研究中。直到1990年代初，日本和美國先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程中，并在需要技術(shù)保密的情況下，開始向中國的外資LCD公司提供UV光清洗機(jī)。
 

　　隨后，在日本開發(fā)紫外線表面清潔技術(shù)的同時，還開發(fā)了紫外線表面改性技術(shù)。二十世紀(jì)末，日本的先進(jìn)工業(yè)國家如紫外線表面清潔和升級技術(shù)逐漸從信息產(chǎn)業(yè)擴(kuò)展到金屬，塑料，橡膠等工業(yè)生產(chǎn)過程。在1990年代后期，中國的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人的速度迅速發(fā)展，特別是平板顯示技術(shù)的迅速發(fā)展。LCD屏幕從TN級別持續(xù)提高到STN和TFT。新型OLED顯示產(chǎn)品也開始進(jìn)入市場。結(jié)果，制備過程的表面質(zhì)量要求變得越來越嚴(yán)格，紫外線表面清潔技術(shù)的*性已得到廣泛認(rèn)可，并且對紫外臭氧清洗機(jī)的需求也在不斷增加。
 

　　1.在LCD和OLED的生產(chǎn)中，在施加光致抗蝕劑，PI膠，取向膜，鉻膜和彩色膜之前先用紫外臭氧清洗機(jī)進(jìn)行光清潔，可以大大提高基板表面的潤濕性并增強(qiáng)基板表面的附著力；
 

　　2.大型集成電路的密度越來越高，晶格越來越密，并且要求表面的清潔度越來越高。輕度清潔可以有效地實(shí)現(xiàn)表面原子清潔度，并且不影響芯片表面。會造成損壞。
 

　　3.在印刷電路板的生產(chǎn)中，紫外臭氧清洗機(jī)對銅基板和印刷基板進(jìn)行光學(xué)清洗和改性，并在焊絲焊接之前進(jìn)行光學(xué)清洗，這樣可以增加熔焊的接觸面積并大大提高增加連接強(qiáng)度。特別是對于高精度印刷電路板，當(dāng)線間距達(dá)到亞微米水平時，光清洗可以輕松地去除線間距之間的非常小的顆粒，這可以大大提高印刷電路板的質(zhì)量。

紫外燈類型	低壓石英水銀蒸汽燈
紫外線燈的主要波長	185nm和254nm
UV燈管尺寸	100x100mm
UV燈電源	4000V,30mA
UV燈壽命	每天使用可用8-10年
適用電壓	230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz)
大運(yùn)行時間	59分59秒
安全	安全聯(lián)鎖，高溫報警，高溫斷電。
托盤尺寸	120x120mm
大樣品尺寸	100x100mm
總尺寸	長204mm、高227mm、寬300mm