Spin Coater的基本原理便是在在旋涂過程中，以每分鐘1000轉(zhuǎn)（rpm）的速度旋轉(zhuǎn)的基板的離心力會在基板上分配幾毫升的抗蝕劑。其優(yōu)點是：高抗蝕劑膜厚度均勻性以及較短的涂覆時間，使得旋涂至少在微電子學中成為廣泛應用的涂覆技術。旋涂后，已涂覆的抗蝕劑已經(jīng)損失了大量溶劑，因此無需在進一步的處理步驟（處理，軟烘烤）之前保持費時的延遲。